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X-선 반도체장치 반도체용 형광 X-선 분석장치 3650 buy in 서울시 on 한국어
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X-선 반도체장치 반도체용 형광 X-선 분석장치 3650

X-선 반도체장치 반도체용 형광 X-선 분석장치 3650

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대한민국, 서울시
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설명
X-선 반도체장치 반도체용 형광 X-선 분석장치 3650
· 특징
반도체용 형광 X-선 분석장치
- wafer size : up to 8 inch
- multi layer film analysis
- 동시 분석 film thickness and composition
- multi point measurement
- 16원소 동시 측정
- GEM 대응

· 상세 정보
200mm까지의 반도체 공정용 Wafer나 자기 디스크등의 박막 제조 라인에 있어서의 공정관리용의 형광 X-선분석장치로, BPSG, Wsix를 시작해 강유전체막(PZT, BST ) 여러 가지의 두께 및 조성등의 동시 분석이 가능합니다.
· 제품 특징
  • 반도체 디바이스: BPSG, SiO2, Si3N4, Doped polySi(B, P, N, As), Wsix, Al-Cu, TiW, TiN, TaN, PZT, BST, SBT, MRAM 등
  • 금속막: W, Mo, Ti, Co, Ni, Al, Cu, Ir, Pt, Ru 등
  • 자기 디스크: CoCrTa, CoCrPt, DLC, NiP 등
  • 광학 자기 디스크: Tb-FeCo 등
  • 자기 헤드: GMR, TMR 등
  • 분석 원소: 4Be~92U
  • X- Y-θ-Z 구동 방식의 시료 Stage와 측정 방향 설정 프로그램으로 올바른 두께 및 조성 분포 측정을 할 수 있습니다. 강유전체 박막도 회절선의 영향이 없습니다.
  • Boron 분석에 대해서 끊임없는 개발을 실시, 항상 새로운 광학계를 제공해 분석 정밀도나 안정도의 향상을 계속하고 있습니다., 안정화를 위해서 항온화 기구 및 진공도 안정화 기능을 장착하고 있습니다.
  • WSix막이 Si 웨이퍼상에서 분석할 수 있는 전용 광학계를 준비해 있습니다.
  • 본제 장치의 footprint가1m2이하의 컴팩트 합니다.
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X-선 반도체장치 반도체용 형광 X-선 분석장치 3650
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